탄탈 룸 합금 탄탈 룸-니오피움 합금

TANALUM 및 TA-2.5W, TA-10W, TA-40NB와 같은 합금은 높은 용융점, 부식성 및 우수한 냉 작업 성을 포함한 놀라운 특성을 갖습니다. 이러한 특성으로 인해 항공, 항공 우주, 고온 기술, 핵 및 화학과 같은 다양한 산업에서 인기가 높아집니다. 탄탈륨과 그 합금은 주로 초음속 항공기, 로켓 엔진, 우주선 연소실, 고온 용광로 및 질산 (HNO3), 황산 (H2SO4) 또는 히드로 클로르 등을 포함하는 부식성 부품의 성분 생산에 주로 사용됩니다. /Muriatic Acid (HCL). (임원 표준 : ASTM B365-98).

또한, 탄탈륨과 니오 비움은 높은 전기 전도도, 열 안정성 및 우수한 장벽으로 작용하여 다른 원자의 침윤을 방지합니다. 부품 및 통합 회로의 표면에 탄탈륨 및 니오 비움이있는 스퍼터링 코팅 기술을 사용함으로써 부식을 방지 할 수 있으며, 구리의 실리콘 기판으로의 확산은 피할 수 있습니다. 탄탈륨 및 니오 비움 코팅은 이전에 널리 사용되는 티타늄 표적 재료에 비해 우수한 장벽 효과를 제공합니다. 탄탈륨 및 니오 비움 코팅의 두께는 0.005-0.01 μm에 도달 할 수 있습니다. 다중 회로 및 다층 금속 화 구조에서, 탄탈륨 및 니오피움 표적은 필름 두께 및 장벽 효과 측면에서 비교할 수없는 이점을 나타낸다. 또한, 탄탈륨 및 니오피움 표적은 열 잉크젯 인쇄 및 LED 패널의 필드에서 광범위한 응용을 찾습니다.

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